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清溢光电:公司持续引进半导体芯片用掩膜版光刻机及配套设备 预计下半年投入生产

2022-07-05 发布于 塞纳网
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  清溢光电7月5日披露投资者关系活动记录表显示,近两年公司的半导体芯片掩膜版业务收入占比持续提高。深圳工厂新引进的半导体芯片用掩膜版光刻机及配套设备已投产,提升半导体芯片和MicroLED显示、硅基半导体显示用掩膜版等产品的产能,以更好地满足集成电路凸块(ICBumping)、集成电路代工(ICFoundry)、集成电路载板(ICSubstrate)、MinLED芯片、MicroLED芯片、微机电(MEMS)等市场的需求。为进一步满足客户产能及交期的需求,公司持续引进半导体芯片用掩膜版光刻机及配套设备,预计在2022年下半年投入生产。技术上公司目前已实现250nm工艺节点的6英寸和8英寸半导体芯片用掩膜版的量产,正在推进180nm半导体芯片用掩膜版的客户测试认证,同步开展130nm-65nm半导体芯片用掩膜版的工艺研发和28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。整体来说,公司在半导体芯片这块的业务的规划是呈一个渐进式的投入。

(文章来源:界面新闻)

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